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因瓦合金采用电解抛光方法有哪些优势特点

因瓦合金具有很低的平均线热膨胀系数,广泛应用于无线电,精密仪表,仪器等行业。高强度因瓦合金作为电力电缆材料,其需求量日益增长。它不仅要求具有较高的强度特性,而且要求具有优良的抗扭转特性。


因瓦合金的力学性能与物理性能与热轧、固溶、拉拔、时效等工艺过程中的晶体学特征息息相关,如晶粒大小、晶界特性、织构类型与分布、组织转变、再结晶情况等。电子背散射衍射(EBSD)技术是在材料精细组织结构分析上的重要手段,而EBSD样品制备成为影响最终分析结果的重要因素。因瓦合金试样在加工与制备过程中产生的表面应力层,使得获得的衍射花样质量差,标定率低。电解抛光技术是效率最高,重复性最好的去除表面应力的一种手段,但是获得合适的抛光液及工艺参数比较困难。

因瓦合金


一、因瓦合金电解抛光方法如下:

将热轧因瓦合金盘条(Φ8)样品的纵截面先进行机械打磨,经机械抛光后用水酒精清洗,吹干。选用分析纯C3H8O2:HClO4:C2H5OH=1:2:22(体积比)配置电解抛光液。将电解抛光液置于电解槽中,电解前将液氮倒入电解槽中,直至电解抛光液的温度降低至5℃。样品为阳极,不溶性金属为阴极,设置抛光电压为40V,抛光时间为15s,并对电解液进行磁力搅拌。电解抛光完毕的样品立刻用水清洗,再经酒精清洗后,烘干即可。本实施例所得试样表面平整、光洁、无变形层,标定率达99%,为热轧因瓦合金盘条纵截面的EBSD 的花样质量图。

因瓦合金

二、因瓦合金电解抛光方法优势

其由C3H8O2、HClO4、C2H5OH按照1:2:17~22的体积比混合而成。电方法采用上述的电解抛光液,因瓦合金试样置于电解抛光液中作为阳极,不溶性金属为阴极;电解抛光液的温度为0℃~10℃,抛光电压为30~40V,对因瓦合金试样进行电解抛光。

1、采用上述技术方案所产生的有益效果在于:配制简单,抛光效果好,试样表面平整、光洁、无明显变形层,可多次使用。能有效去除表面的应力层,有效地提升电解抛光质量,得到高标定率的电子衍射花

2、能有效的去除样品表面的应力层,试样表面平整、光洁、无变形层,有利于EBSD测试时产生强的衍射花样,获得高的标定率,以便于对因瓦合金进行晶界特征、织构、应力等微观组织结构的研究。


由上可见因瓦合金采用电解抛光方法非常有利因瓦合金产品,这种方法对因瓦合金材料在使用精密仪表,仪器等行业上有非常重要的影响,对这些产品的使用和性能提升都有很好的帮助。目前因瓦合金材料的供应,对整个行业的发展都有很深的影响,充足的因瓦合金材料供应是市场发展重要因素。



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