溅射靶材企业上市及行业分析

继江丰电子后，又一家国产溅射靶材企业福建阿石创新材料股份有限公司今日正式登陆A股深交所创业板。超大规模集成电路和显示面板、太阳能电池等电子材料被美、日跨国公司垄断的局面的正在得到改善。

招股说明书显示，阿石创专业从事各种 PVD 镀膜材料研发、生产和销售，主导产品为溅射靶材和蒸镀材料两个系列产品，主要应用于光学光电子产业，用以制备各种薄膜材料。产品已在平板显示、光学元器件、节能玻璃等领域得到广泛应用，并已研发出应用于太阳能电池、半导体等领域的多款产品，是国内 PVD 镀膜材料行业产品品种较为齐全、应用领域较为广泛、工艺技术较为全面的综合型 PVD 镀膜材料生产商。

PVD 镀膜材料主要用以制备各种具有特定功能的薄膜材料，应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、 工具改性、高档装饰用品等。

薄膜材料制备技术主要包括物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。PVD 技术是制备薄膜材料的主要技术之一，指在真空条件下采用物理方法， 将某种物质表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或 等离子体）过程，在基板材料表面沉积具有某种特殊功能的薄膜材料的技术。在 PVD 技术下，用于制备薄膜材料的物质，统称为 PVD 镀膜材料。经过多年发展， PVD 技术已成为目前主流镀膜方法，主要包括溅射镀膜和真空蒸发镀膜。

溅射镀膜是指利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速 度的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面 的原子离开固体并沉积在基板材料表面的技术。被轰击的固体是用溅射法沉积薄 膜材料的原材料，称为溅射靶材。

溅射镀膜基本原理

2016年12月，工信部、发改委、财政部、科技部联合发布《新材料产业发展指南》，部分新一代信息技术产业用材料被列入需突破的重点应用领域急需的新材料，并要求加强大尺寸硅材料、大尺寸碳化硅单晶、高纯金属及合金溅射靶材生产技术研发，加快高纯特种电子气体研发及产业化，解决极大规模集成电路材料制约。

2017年6月，工信部发布《重点新材料首批次应用示范指导目录(2017年版)》，提出了平板显示用ITO靶材、平板显示用高纯钼靶材等重点新材料的应用领域。

 溅射靶材生产工艺流程

 招股说明书显示，阿石创溅射靶材可分为金属/非金属单质靶材、合金靶材、化合物靶材等。

逐鹿溅射靶材市场

招股说明书显示，溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均 匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点， 已成为制备薄膜材料的主要技术之一，各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应 用，因此，对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，溅射靶材亦已成为目前市场应用量最大的 PVD 镀膜材料。

招股说明书显示，根据中国电子材料行业协会数据，2016年全球高纯溅射靶材市场规模约为 113.6 亿美元，其中平板显示（含触控屏）用靶材为 38.1 亿美元、半导体用靶材 11.9 亿美元、太阳能电池用靶材 23.4 亿美元、记录媒体靶材 33.5 亿美元。到2019 年，全球高纯溅射靶材市场规模将超过 163 亿美元，年复合增长率达 13%。

 招股说明书显示，长期以来全球 PVD 镀膜材料研制和生产主要集中于美国、日本及德国等国家的少数公司，产业集中度较高。经过几十年的技术积淀，这些国外厂商凭借其雄厚的技术力量、精细的生产控制和过硬的产品质量居于全球高端 PVD 镀膜材料市场的主导地位。受到发展历史和技术限制的影响，PVD 镀膜材料行业在我国起步较晚，目前仍属于一个较新的行业。与国际知名企业生产的 PVD 镀膜材料相比，我国 PVD 镀膜材料研发生产技术总体上还存在一定差距，市场影响力相对有限，尤其在平板显示、半导体、太阳能电池等领域，全球高端 PVD 镀膜材料市场依然以美国、 日本及德国等国家的 PVD 镀膜材料生产厂商为主导。但是近几年我国 PVD 镀膜材料生产企业在技术和市场方面都取得了长足的进步，正逐步改变高端 PVD 镀膜材料长期依赖进口的不利局面。