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ITO氧化铟锡(片)

由于氧化铟/氧化锡(In2O3/SnO2 90/10 WT%)的导电性和光学透明性,它在薄膜行业被大量利用。按照90 / 10重量比的化合物熔点约为1800°C,密度为7.14克/毫升。各种ITO化合物的颜色范围从浅黄色到深绿色或深灰色。它在真空下蒸镀或溅射,形成透明导电层,用于液晶显示器和各种光学涂层的制造。ITO薄膜被创建和应用于传感器和汽车工业的玻璃涂层。

Indium Tin Oxide (In2O3 SnO2 90  10 wt %) Pieces Evaporation Materials.jpg


材料氧化铟锡 
化学成分In2O3/SnO2 90/10 wt %
纯度3N5-5N
熔点 (°C)1,800


真空蒸镀是指在真空中通过电流加热,电子束轰击加热和激光加热等方法,使被蒸材料蒸发成原子或分子,它们随即以较大的自由程作直线运动,碰撞基片表面而凝结,形成薄膜。
立承德集团( NEXTECK )提供各种高质量的蒸镀材料,具有全方位的纯度和尺寸,以满足客户的需求。我们提供贵金属以及非贵金属薄膜材料。广泛应用于汽车、航空航天、医学、平板显示、磁(光)记录媒体、镀膜玻璃、光学镀膜、硬质膜、装饰膜等领域。